GB／T 39145-2020标准规范下载简介
GB／T 39145-2020 硅片表面金属元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法.pdfGB/T 39145—2020
硅片表面金属元素含量的测定
国家市场监督管理总局 发布 国家标准化管理委员会
DB35／T 1433-2019 石油化工装置防雷检测技术规范GB/T39145—2020
本标准按照GB/T1.1一2009给出的规则起草。 本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会（SAC/TC203）与全国半导体设备和材料标准 化技术委员会材料分技术委员会（SAC/TC203/SC2)共同提出并归口。 本标准起草单位：南京国盛电子有限公司、有研半导体材料有限公司、浙江金瑞泓科技股份有限公 同、上海合晶硅材料有限公司、有色金属技术经济研究院、无锡华瑛微电子技术有限公司、龙腾半导体有 限公司、厦门科鑫电子有限公司。 本标准主要起草人：骆红、潘文宾、赵而敬、孙燕、张海英、徐新华、温子瑛、胡金枝、李素青、马林宝、 李俊需
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硅片表面金属元素含量的测定
下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注目期的引用文件，仅注日期的版本适用于本文 件。凡是不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有的修改单）适用于本文件。 GB/T6624硅抛光片表面质量目测检验方法 GB/T14264半导体材料术语 GB/T17433冶金产品化学分析基础术语 GB/T19921硅抛光片表面颗粒测试方法 GB/T25915.1一2010洁净室及相关受控环境第1部分：空气洁净度等级 GB/T37837四级杆电感耦合等离子体质谱方法通则 JF1159四级杆电感耦合等离子体质谱仪校准规范 SEMIF63半导体加工用超纯水指南（Guideforultrapurewaterusedinsemiconductorprocess ing
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测试误差。自动化程度较高的设备会比人工操作更精确和稳定，测试误差相对会偏小
6.1超纯水：电阻率大于18.0MQ·cm，各待测金属元素含量均小于1ng/L，其他应符合SMEIF63的 现定。 6.2硝酸：质量分数65.0%～68.0%，各待测金属元素含量均小于10ng/L。 6.3氢氟酸：质量分数30.0%～50.0%。用于配置提取液的氢氟酸中各待测金属元素含量均小于 10ng/L；用于VPD工艺的氢氟酸中各待测金属元素含量可小于100ng/L。 6.4过氧化氢：质量分数30.0%～35.0%，各待测金属元素含量均小于10ng/L， 6.5混合元素标准溶液：采用可以量值溯源的有证标准物质，钠、镁、铝、钾、钙、铬、锰、铁、钴、镍、铜、锌 元素质量浓度均为10mg/L~100mg/L。如供需双方商定测试其他金属元素，混合元素标准溶液中应 同样包含这部分元素。 6.6提取液：氢氟酸、超纯水的混合液，或氢氟酸、过氧化氢、超纯水的混合液，或氢氟酸、过氧化氢、硝 酸、超纯水的混合液等，其中氢氟酸的体积分数为1%～10%。 6.7调谐液：锂、亿、铈、铊、钻元素质量浓度均为10μg/L。 6.8氢气、氮气、氩气：纯度（体积分数）应不小于99.999%。 6.9防护用具：符合相应洁净间要求的防酸衣、防酸手套、护目镜
6.1超纯水：电阻率大于18.0MQ·cm，各待测金属元素含量均小于1ng/L，其他应符合SMEIF63的 现定。 6.2硝酸：质量分数65.0%～68.0%，各待测金属元素含量均小于10ng/L。 6.3氢氟酸：质量分数30.0%～50.0%。用于配置提取液的氢氟酸中各待测金属元素含量均小于 10ng/L；用于VPD工艺的氢氟酸中各待测金属元素含量可小于100ng/L。 5.4过氧化氢：质量分数30.0%～35.0%，各待测金属元素含量均小于10ng/L， 6.5混合元素标准溶液：采用可以量值溯源的有证标准物质，钠、镁、铝、钾、钙、铬、锰、铁、钴、镍、铜、锌 元素质量浓度均为10mg/L～100mg/L。如供需双方商定测试其他金属元素，混合元素标准溶液中应 司样包含这部分元素。 6.6提取液：氢氟酸、超纯水的混合液，或氢氟酸、过氧化氢、超纯水的混合液，或氢氟酸、过氧化氢、硝 酸、超纯水的混合液等，其中氢氟酸的体积分数为1%～10%。 6.7调谐液：锂、、铈、铊、钻元素质量浓度均为10g/L。 6.8氢气、氨气、氩气：纯度（体积分数）应不小于99.999%。 6.9防护用具：符合相应洁净间要求的防酸衣、防酸手套、护目镜
8.1温度：22℃±2℃。
8.1温度：22℃±2℃ 8.2相对湿度：45%±10%。 8.3洁净度应符合下列规定： a）测试区域：达到或优于GB/T25915.1—2010中ISO5级的要求； b）制样区域和试剂放置区域：达到或优于GB/T25915.1一2010中ISO4级的要求
温度：22C2 相对湿度：45%±10%。 洁净度应符合下列规定： a）测试区域：达到或优于GB/T25915.1—2010中ISO5级的要求； b）制样区域和试剂放置区域：达到或优于GB/T25915.1一2010中ISO4级的要求
测硅片平放，用微移液器取适量提取液均勾滴在
行均 晃动，使提取液全面均匀地扫描整个硅片表面， 9.1.1.3硅片表面呈现疏水性时，硅片表面的氧化层已完全分解。 9.1.1.4提取液扫描整个硅片表面至少一次，以保证足够的反应时间，获得扫描溶液 9.1.1.5用微移液器将扫描溶液 扫描溶液进行测试
采用自动制样机收集硅片表面的金属元素获得扫
9.2.1用非金属镊子或真空吸笔将待测硅片放置在VPD处理盒中，待测硅片暴露在氢氟酸蒸汽中直
1用非金属镊子或真空吸笔将待测硅片放置在VPD处理盒中，待测硅片暴露在氢氟酸蒸汽中 圭片表面的氧化层完全分解DB31T 1196-2019 城市轨道交通卫生规范.pdf，取出待测硅片。 2手动法制备扫描溶液同9.1.1。 3自动法制备扫描溶液同9.1.2
10.1.1按仪器操作说明初步设定仪器工作条件，用调谐液调整仪器，在测试元素的离子计数的同时， 对仪器工作条件进行优化、调谐，以达到最佳灵敏度的测试条件， 10.1.2测试超纯水中各待测金属元素的含量，确认设备的可靠性与稳定性。 10.1.3各待测元素质量数的选择参见表1
表1待测元素的质量数
至少独立地测定三次，取三次测试结果的算术平均值
10.4校准曲线的绘制
.1用洁净的容量瓶与分析天平，配制不同质量浓度的系列标准溶液。所配制的系列标准溶液 度值应尽量接近扫描溶液中待测元素的质量浓度值。例如GB／T 51351-2019 建筑边坡工程施工质量验收标准(完整正版，清晰无水印)，扫描溶液中待测金属元素质量浓度 0.50μg/L，可分别取0μL、50μL、100μL、200μL、500μL、1000μL的混合元素标准溶液（各待 质量浓度为10mg/L），用超纯水定容至100mL，此系列标准溶液中各元素的质量浓度分别
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